自由集会 W30-4  （Workshop）

高山植物における抗ストレス性フェノール化合物を用いた化学的適応メカニズム
Chemical Adaptation Mechanisms Using Anti-stress Phenolic Compounds in Alpine Plants

*平野日向（東京農工大連合農学研）, 伊藤 (阿部)美菜子（科博・標本資料セ）, 尾関雅章（長野県環境保全研究所）, 村井良徳（東京農工大連合農学研, 科博・植物研究部）
*Hyuga HIRANO（UGSAS, TUAT）, Minako ITO (ABE)（Natl. Mus. Nat. Sci. Specimen）, Masaaki OZEKI（Nagano Environ. Res. Inst.）, Yoshinori MURAI（UGSAS, TUAT, Natl. Mus. Nat. Sci. Plant）